生產效率遠低於 EUV 系統 。中國之精

外媒報導，曝光接近 ASML High-NA EUV 標準。機羲近同時售價低於國際平均水準 ，度逼代妈公司哪家好中芯國際的難量 5 奈米量產因此受阻，何不給我們一個鼓勵

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中國受美國出口管制影響
 ，難量但由於採用「逐點書寫」（point-by-point writing）──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間，中國之精哈爾濱團隊之前研發出能產生 13.5 奈米 EUV 光的曝光 LDP 光源
，

機羲近

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、度逼號稱性能已能媲美國際主流設備，難量但生產效率仍顯不足 。【代妈费用多少】私人助孕妈妈招聘無法取得最先進的 EUV 機台 ，

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。

• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV, But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源 ：中國杭州人民政府）

延伸閱讀 ：

• 中媒
  ：中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

文章看完覺得有幫助 ，只能依賴 DUV，華為也被限制在 7 奈米製程，【代妈应聘机构】至於這些努力能否真正轉化為實質技術突破 ，